热舟蒸发源-真空组件 参考价：面议
热舟蒸发源-真空组件应用范围： 薄层沉积； 光学涂覆； 混合层沉积； 金属电极接触。
俄歇电子能量谱-真空组件 参考价：面议
俄歇电子能量谱-真空组件俄歇电子能量谱是一种利用高能电子束为激发源的表面分析技术. AES分析区域受激原子发射出具有元素特征的俄歇电子。俄歇电子在固体中运行也同...
等离子体原子/离子源-真空组件 参考价：面议
等离子体原子/离子源-真空组件产生感应耦合等离子体,包括氮气,氧气和氢气等分子气体。使用1个射频线圈（频率13.56MHz）,能量将转化为等离子体，这会产生仅具...
半球型电子能量分析谱-真空组件 参考价：面议
半球型电子能量分析谱-真空组件大型高透射半球形电子能量分析谱--120mm半径.¨ 全程180度反转角度.¨ 边缘界线区域校正--使用Jos...
电子束蒸发源-真空组件 参考价：面议
电子束蒸发源-真空组件电子束蒸发源对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或...
磁控溅射靶源-真空组件 参考价：面议
磁控溅射靶源-真空组件我司提供的磁控溅射源是目前一和超高真空系统（1e-11torr）匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中，可烘烤至250℃。在匹配的...
IG2离子源-超高真空 参考价：面议
IIG2离子源-超高真空典型应用是氩离子溅射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型离子源）溅射清洗 /表面准备，用于表面科学，MBE ，高真空溅射过程离子辅助沉...
真空腔体水气解吸附组件 参考价：面议
真空腔体水气解吸附组件Zcuve是近年来上较多使用的水蒸气解吸技术。*的设计可从2.75“扩展到8"法兰尺寸，具有比例较高的紫外线功率因数
半球电子能量分析器-真空组件 参考价：面议
半球电子能量分析器-真空组件半球电子能量分析器半径: 120mm反转角度: 180 deg.
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件 参考价：面议
磁控溅射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空组件磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔体水气解吸附组件2 参考价：面议
真空腔体水气解吸附组件2ZCUVE代表了水蒸气解吸技术的新进展。*的设计可从2.75“扩展到8"法兰尺寸，紫外线功率因数w按比例增加
射频离子/原子源（可转换）-真空组件 参考价：面议
射频离子/原子源（可转换）-真空组件射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗
X射线光源-真空组件 参考价：面议
X射线光源-真空组件X射线光源（可用于X射线电子能谱） 双阳极X射线光源多种阳极材料具有差分抽气或者从安装口抽气70mm O.D. CF安装法兰
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